Process
製程說明
CVD 段負責介電層與導電薄膜的沉積品質。我們提供日系 KE 與 MATSUSHITA 化學氣相設備的銷售與維護，支援先進節點的薄膜均勻性需求。
Brands
代理品牌
日系原廠正式管道，銷售與維護一體服務。
KE
CVD 沉積設備
銷售 / 維護
MATSUSHITA
CVD 沉積設備
銷售 / 維護
Specifications
設備規格表
各品牌主力機型類別概覽，完整規格隨報價提供。
| 機型類別 | 適用節點 | 關鍵規格 |
|---|---|---|
| KECVD 沉積設備 | 先進節點薄膜沉積 | 膜厚均勻性依機型配置 |
| MATSUSHITACVD 沉積設備 | 先進節點薄膜沉積 | 膜厚均勻性依機型配置 |
AI Integration
AI 整合
對標 2024–2026 公開發表之代表模型，隨設備導入。
DeepOHeat-v1
DeepONet＋KAN＋GMRES 細化，物理資訊訓練無需模擬資料
MAPE 0.035%、訓練 -62×、記憶體 -31×
ThermEDGe / IREDGe
熱-IR 聯合 Encoder-Decoder CNN
平均 IR 誤差 0.053mV
Service Flow
服務流程
從採購到驗收，單一窗口全程負責。
- 1採購
- 2拆裝機
- 3運送
- 4裝機
- 5驗收