Process
製程說明
掩模版是先進節點成本與精度的制高點。我們提供日系 NUFLARE 與 JEOL 掩模版製程設備（電子束描寫等）的銷售與維護。
Brands
代理品牌
日系原廠正式管道，銷售與維護一體服務。
NUFLARE
電子束描寫設備
銷售 / 維護
JEOL
電子束描寫設備
銷售 / 維護
Specifications
設備規格表
各品牌主力機型類別概覽，完整規格隨報價提供。
| 機型類別 | 適用節點 | 關鍵規格 |
|---|---|---|
| NUFLARE電子束描寫設備 | 先進節點掩模 | 描寫精度與缺陷率依機型配置 |
| JEOL電子束描寫設備 | 先進節點掩模 | 描寫精度與缺陷率依機型配置 |
AI Integration
AI 整合
對標 2024–2026 公開發表之代表模型，隨設備導入。
ILT 逆光刻技術
逆向設計生成掩模圖形，GPU 加速收斂
先進節點掩模優化
LithoDreamer
生成式掩模優化與製程窗探索
掩模設計迭代加速
SEMVision H20
e-Beam 複審深度學習分類
3× 複審速度，已導入 2nm/GAA
Service Flow
服務流程
從採購到驗收，單一窗口全程負責。
- 1採購
- 2拆裝機
- 3運送
- 4裝機
- 5驗收