フォトマスク工程Mask

回路の原版であり、先端ノードにおける最初の設計図。

Process

工程の概要

フォトマスクは先端ノードにおけるコストと精度の最高到達点です。当社は日系 NUFLARE と JEOL のフォトマスク工程装置（電子ビーム描画装置など）の販売とメンテナンスを提供します。

Brands

日系メーカーの正規ルートで、販売とメンテナンスを一体で提供します。

電子ビーム描画装置

販売 / メンテナンス

電子ビーム描画装置

販売 / メンテナンス

Specifications

各ブランドの主力機種カテゴリの概要です。詳細な仕様はお見積りとあわせてご提供します。

フォトマスク工程装置仕様表（参考データ。実際の内容はお見積りに準じます）
機種カテゴリ	対応ノード	主要仕様
NUFLARE電子ビーム描画装置	先端ノード用フォトマスク	描画精度と欠陥率は機種構成によります
JEOL電子ビーム描画装置	先端ノード用フォトマスク	描画精度と欠陥率は機種構成によります

※ 本表は参考データであり、評価の目安としてご利用ください。実際の機種、対応ノード、仕様は正式なお見積りに準じます。

AI Integration

2024–2026 年に公開された代表的モデルをベンチマークし、装置導入とあわせて提供します。

逆設計によりフォトマスクパターンを生成、GPU 加速で収束

先端ノードのフォトマスク最適化

生成 AI によるフォトマスク最適化とプロセスウィンドウの探索

フォトマスク設計のイテレーションを高速化

e-Beam レビューの深層学習分類

レビュー速度 3×、2nm/GAA に導入済み

Service Flow

調達から検収まで、単一窓口が全工程に責任を持ちます。

フォトマスク工程（Mask）の新品・中古装置の評価、仕様確認、解体・据付と輸送のお見積りを承ります。お気軽にメールでお問い合わせください。