Process
工艺说明
光刻段是先进制程的心脏，光刻机与涂胶显影设备的精度直接决定线宽与套刻能力。我们提供日系主力光刻机全系列产品的销售与维护，涵盖纳米压印等前瞻技术路线。
Brands
代理品牌
日系原厂正式渠道，销售与维护一体服务。
NIKON
全系列光刻机
销售 / 维护
CANON
全系列光刻机（含纳米压印 NIL）
销售 / 维护
TEL
涂胶显影设备
销售 / 维护
DNS
涂胶显影设备
销售 / 维护
Specifications
设备规格表
各品牌主力机型类别概览，完整规格随报价提供。
| 机型类别 | 适用节点 | 关键规格 |
|---|---|---|
| NIKON全系列光刻机 | 先进节点至 2nm／GAA | 线宽与套刻精度依机型配置 |
| CANON全系列光刻机（含纳米压印 NIL） | 先进节点至 2nm／GAA | 线宽与套刻精度依机型配置 |
| TEL涂胶显影设备 | 先进节点至 2nm／GAA | 线宽与套刻精度依机型配置 |
| DNS涂胶显影设备 | 先进节点至 2nm／GAA | 线宽与套刻精度依机型配置 |
AI Integration
AI 整合
对标 2024–2026 公开发表的代表模型，随设备导入。
LithoDreamer
生成式光刻工艺模型，支持曝光条件探索与工艺窗口优化
工艺窗口探索效率大幅提升
ILT 逆光刻技术
逆向设计生成掩模图形，GPU 加速收敛，对接先进节点 OPC 需求
先进节点掩模优化
可解释 GAT（ASP-DAC'26）
布局热点检测，8 头图注意力网络
内存较图像法节省 5–12×
SEMVision H20
e-Beam 复检深度学习分类，产线持续训练
3× 复检速度，已导入 2nm/GAA
Service Flow
服务流程
从采购到验收，单一窗口全程负责。
- 1采购
- 2拆装机
- 3运输
- 4装机
- 5验收